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PVD真空镀膜厂家

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  • 所属分类:PVD真空镀膜
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2019-12-09
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

    PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。

    

     采用全球先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备,及在此基础之上与国际专家的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验,为客户提供最适合的涂层加工方案。

    

PVD真空镀膜


    PVD真空镀膜的属性

    •金属外观 颜色均匀一致 耐久的表面,在各种基本的空气和直射阳光环境条件下永远保持良好外观。颜色深韵、光亮。

    •经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。使用一块软布和玻璃清洁剂即可清洁干净PVD膜层。

    •对环境无害,避免化学中毒和VOC的散发。

    

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