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镀膜技术的原理介绍

2021-08-09

  1、真空镀膜技术是一项新兴技术。直到1960年代,CVD(化学气相涂层)技术才应用于硬质合金刀具。由于该方法需要在高温下(工艺温度高于1000ºC)进行,且涂层类型单一,局限性很大,贵州镀钛加工,需要在开发初期进行改进。

    2、离子镀的基本原理:在真空条件下,利用相应的等离子体电离技术,使镀层原子部分电离,同时产生大量高能中性原子,对镀层施加负偏压。镀层表面。因此,在深负偏压的作用下,离子沉积在基板表面形成薄膜。

    3、PVD是一种物理气相沉积法,分为:真空蒸发法、真空溅射法和真空离子法。PVD镀膜通常是指真空离子镀膜;NCVM镀膜通常是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀膜。

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    4、真空镀的基本原理:在真空条件下,贵州钛金厂,金属、金属合金等蒸发后沉积在基材表面。蒸发法通常采用电阻加热,电子束轰击镀层材料蒸发成气相,然后沉积到基板表面,PVD法在真空蒸发技术史上是首创。

    5、溅射镀膜的基本原理:在充满氩(Ar)气的真空环境中,当氩(Ar)原子电离形成氩离子(Ar)时,氩离子在电的作用下会加速轰击镀场力。阴极靶材由材料制成,靶材会被溅射出并沉积在工件表面。溅射薄膜中的入射离子一般通过辉光放电获得, PVD真空镀膜,范围在10-2Pa~10Pa之间。因此,当溅射出的粒子飞到基板上时,很容易与空气中的气体分子发生碰撞,使其运动。方向随机,沉积膜容易均匀。



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