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真空电镀设备膜厚的不均匀问题

2021-07-30

 不管监控器的精度如何,它只能控制真空室中单个点的膜厚,该点一般是工件夹具的中间位置。如果真空电镀设备该位置的膜厚不是对均匀的,那么远离中心位置的基板将无法获得均匀的厚度。屏蔽罩虽然可以消除长期的不均匀,但由于蒸发源的不稳定或薄膜材料的性能不同,导致薄膜厚度的一些变化几乎不可能消除,贵州镀钛加工,但其结构

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    在过去的几年里,越来越多的用户要求镀膜系统制造商提供高性能、小幅面、简单的光学镀膜系统。与此同时, PVD真空镀膜,用户对性能的要求并没有降低,反而有所提高,尤其是在薄膜方面。密度并确保吸水后的光谱变化小化。

    现在,系统的平均尺寸已经缩小,应用小型设备生产光学镀膜也变成了一个纯粹的技术问题。因此,选择现代光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的仔细考虑:镀膜产品的预期性能、基材的尺寸和物理特性,贵州钛金厂,以及确保高度一致性所需的所有技术因素正在进行中。



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