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PVD真空镀膜

PVD真空镀膜

  • 所属分类:PVD真空镀膜
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2019-12-09
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

    目前常用的PVD有三种:真空蒸镀、溅射镀膜、和离子镀。它们的工作原理如下:

    

    1.真镀空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的压力下,用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层。

    

    2.溅射pvd真空镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时,将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体,并保持其压力为0.13至1.33Pa。

    

PVD真空镀膜


    3.离子镀:是在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离子化,在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,吧蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。

    

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